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1200系列三溫區(qū)管式爐采用不銹鋼方管為爐管，工作溫度區(qū)間500℃至900℃，每個(gè)溫區(qū)可以單獨(dú)控溫。該系列設(shè)備的控制系統(tǒng)，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。
更新日期：2025-04-03
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
三溫區(qū)管式爐，額定溫度為1500℃，使用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，質(zhì)量過硬，安全可靠，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備。
更新日期：2025-04-03
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
多工位旋轉(zhuǎn)管式爐用途：廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域
更新日期：2025-04-03
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1500℃開啟式立式管式爐設(shè)備簡介：立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環(huán)形分布的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可應(yīng)用于小型鋼件的淬火、退火、回火熱處理，以及立式CVD鍍膜等。設(shè)備可在氣氛狀態(tài)、真空狀態(tài)下運(yùn)行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所等單位
更新日期：2025-04-03
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1200℃開啟式立式管式爐 設(shè)備簡介： 立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環(huán)形分布的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可應(yīng)用于小型鋼件的淬火、退火、回火熱處理，以及立式CVD鍍膜等。設(shè)備可在氣氛狀態(tài)、真空狀態(tài)下運(yùn)行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所等單位
更新日期：2025-04-03
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
三溫區(qū)高溫管式爐三個(gè)數(shù)字溫度控制器可獨(dú)立控制溫度，并可設(shè)置30段升降溫程序，溫區(qū)1（加熱區(qū)中心）采用硅碳棒加熱，另外兩個(gè)溫區(qū)用硅鑰棒進(jìn)行加熱，此款管式爐可以形成一個(gè)溫度梯度，調(diào)整三個(gè)溫區(qū)的溫度，在熱梯度下制備功能材料，同時(shí)也適用于CVD法制作薄膜外延生長。
更新日期：2025-08-18
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
更新日期：2025-08-18
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1200℃可傾斜旋轉(zhuǎn)管式爐自行研制開發(fā)的一款管式電爐，具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐腔溫度均勻性高、升溫速率快等特點(diǎn)。帶三個(gè)冷卻風(fēng)扇的雙層結(jié)構(gòu)，高純氧化鋁纖維材料，。直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)石英管以0-7RPM旋轉(zhuǎn)，爐子用電動(dòng)升降機(jī)可以傾斜到內(nèi)爐腔表面涂有氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度，可根據(jù)客戶需求定制不同規(guī)格的旋轉(zhuǎn)管式電爐。
更新日期：2025-08-26
型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
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